Inserto Piezosurgery EL3 Elevación Completa de Seno

Inserto Piezosurgery EL3 Mectron

El Inserto Piezosurgery EL3 Mectron ha sido diseñado para completar la elevación de la membrana de Schneider durante procedimientos de elevación lateral del seno maxilar mediante tecnología PIEZOSURGERY®.

Después de la liberación inicial del perímetro de la ventana ósea con el EL1 y de la separación progresiva realizada con el EL2, el EL3 permite acceder a las zonas más profundas del seno para finalizar la movilización de la membrana sinusal. Su geometría facilita una elevación controlada y uniforme, preparando el espacio necesario para la colocación del material de injerto cuando el protocolo clínico lo requiere.

El EL3 forma parte del Sinus Lift Set de Mectron y constituye el último paso de la secuencia de separación de la membrana. Su utilización permite completar el desprendimiento de la membrana de Schneider con precisión antes de continuar con las fases reconstructivas del procedimiento de elevación sinusal.

Características principales:

• Inserto original Mectron para sistemas PIEZOSURGERY®.
• Especializado en la elevación final de la membrana sinusal.
• Diseñado para trabajar en las zonas profundas del seno maxilar.
• Indicado para procedimientos de sinus lift mediante abordaje lateral.
• Integrado en el Sinus Lift Set de Mectron.
• Compatible con equipos PIEZOSURGERY®.

Ventajas del Inserto Piezosurgery EL3:

• Completa la separación de la membrana de Schneider de forma controlada.
• Facilita la movilización uniforme en las zonas más alejadas de la ventana ósea.
• Prepara el espacio para la fase de regeneración ósea o injerto.
• Favorece una secuencia quirúrgica ordenada dentro del protocolo Sinus Lift.
• Complementa el trabajo realizado previamente con los insertos EL1 y EL2.
• Garantiza la precisión y calidad de un inserto original PIEZOSURGERY®.

El Inserto Piezosurgery EL3 constituye una herramienta específica para implantólogos y cirujanos orales que realizan elevaciones laterales de seno, permitiendo completar la movilización de la membrana de Schneider antes de las fases reconstructivas del tratamiento implantológico.