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Horno de cerámica Luxor SR852
Referencia producto: BM-MIS002600
Fabricante/Marca: SIRIO
Precio Habitual 4,72
Promoción válida para: España peninsula y Baleares
Precio Promoción: 2.939,03 € Impuestos excluidos
Impuestos aplicables: IVA ES 21%
Eficiencia
Cómodo
Rápido
Atención al cliente
Garantía
Stock disponible
Horno de cerámica Luxor SR852
Es un horno para la cocción de cerámica de última generación. Control electrónico diseñado para facilitar y simplificar al máximo el trabajo del técnico dental en todas las fases del ciclo de funcionamiento.
El horno de cerámica puede almacenar hasta 100 programas, con 15 funciones (variables) para cada programa, gestionar el nivel de vacío y ajustar la velocidad de enfriamiento.
Todas estas características, combinadas con un horno versátil simple y robusta mecánica y un diseño nuevo y mejorado, que Luxor de cerámica y de gran innovación capaz de cocinar cualquier tipo de cerámica.
Información del producto
Horno de cerámica modelo SR852
Horno cerámica SR 852 | |
---|---|
tensión de alimentación | 230 V - 50/60 Hz |
Potencia (sin bomba) | 1200 W |
fusible | 10 A |
dimensiones | 40 (L) x 44 (W) x 50 (H) cm |
peso | 30 Kg |
Programas de cerámica normales | 100 |
funciones variables para cada programa | 15 |
Calibración (manual + auto-tuning) | SÍ |
F 1 | ta | temperatura de secado (o la temperatura de inicio): puede variar de 20 ° C a 1200 ° C. Esta temperatura se alcanza con una velocidad fija de ascenso de 70 ° C / min |
F 2 | t1 | Tiempo de secado o el cierre de la cámara (en minutos y segundos). Después de alcanzar la temperatura de secado TA, las subidas de placas y utilizando el tiempo establecido de esta variable, se cierra la cámara de |
F 3 | t2 | Cámara de secado Tiempo cerrada antes de empezar a cocinar (en min. Y s.). Este tiempo de espera puede ser importante para "homogeneizar la temperatura dentro de la cámara después de que el cierre de la mufla. Si se establece en 0: después de cerrar la sala de la estufa empieza el calentamiento de la próxima etapa F4 |
F 4 | TC | Temperatura de cocción. Puede varían del 20 al 1200 ° C |
F 5 | VC | velocidad de ascenso (° C / min). Puede variar de 2 a 200 ° C / min |
F 6 | tc | tiempo (en minutos y segundos) Cooking |
F 7 | vacío | (1=sí, 0=NO) |
F 8 | TV-on | temperatura de ignición de la bomba para el vacío. El vacío se puede hacer durante la fase de disparo: por lo tanto, TV-ON debe ser mayor que o igual a TA |
F 9 | tv-off | la bomba de temperatura para el vacío. Puede ser menor o igual al TC |
F 10 | tv-off | El tiempo de residencia del vacío a TC. Esta variable sólo se establece si TV-OFF =TC (es decir, si F9=F4) |
F 11 | % V | Nivel de vacío expresado en % de vacío absoluto |
F 12 | TR | Guiado de enfriamiento hasta la temperatura establecida. El horno se enfría lentamente a una velocidad de enfriamiento situado en F13 antes de comenzar a abrir la cámara |
F 13 | vr | velocidad de enfriamiento en ° C / min durante el enfriamiento lento. |
F 14 | t3 | tiempo (en minutos y segundos) la apertura de cámara. Si establece 0 la cámara se abre al instante |
F15 | tf | Temperatura final: es la temperatura a la que tiene el horno al final del ciclo. Esta temperatura se ajustará de acuerdo con la temperatura de secado del ciclo siguiente |
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