Inserto Piezosurgery SLE2 Elevación Interna de Seno
Referencia producto: INC-03390008
Fabricante / Marca: MECTRON
Promoción válida para: España península y Baleares
Impuestos aplicables: IVA ES 21%
Inserto Piezosurgery SLE2 para elevación profunda de la membrana sinusal
El Inserto Piezosurgery SLE2 Mectron ha sido desarrollado para completar el desprendimiento profundo de la membrana de Schneider durante procedimientos de elevación lateral del seno maxilar. Tras la movilización inicial realizada con el SLE1, su diseño facilita ampliar la separación hacia las zonas más alejadas del acceso quirúrgico, permitiendo una elevación uniforme y controlada de la membrana sinusal.
Como integrante de la gama Elevation de Mectron, el SLE2 constituye el paso final de la secuencia de elevación profunda antes de la colocación del material de injerto o de la continuación del protocolo implantológico.
Especialmente indicado para completar la elevación profunda de la membrana de Schneider durante procedimientos de sinus lift.- Inserto original Mectron PIEZOSURGERY®.
- Finaliza el desprendimiento profundo de la membrana sinusal.
- Permite ampliar la elevación hacia las zonas más profundas del seno.
- Forma parte del protocolo Sinus Lift de Mectron.
- Compatible con sistemas PIEZOSURGERY®.
Catálogo Insertos Piezosurgery Mectron
Documento con especificaciones técnicas y aplicaciones clínicas de los insertos Piezosurgery Mectron.
Inserto Piezosurgery SLE2 Mectron
El Inserto Piezosurgery SLE2 Mectron ha sido diseñado para completar el desprendimiento profundo de la membrana de Schneider durante procedimientos de elevación lateral del seno maxilar mediante tecnología PIEZOSURGERY®.
Tras el inicio de la movilización realizado con el inserto SLE1, el SLE2 permite ampliar la separación de la membrana hacia las zonas más profundas del seno maxilar. Su geometría facilita una elevación progresiva y uniforme del tejido sinusal, proporcionando un elevado control durante la fase final del sinus lift antes de la colocación del material de regeneración ósea.
El SLE2 forma parte de la familia Elevation desarrollada por Mectron y constituye el instrumento destinado a completar la secuencia de elevación profunda de la membrana. Su utilización permite finalizar la movilización de la membrana de Schneider de forma precisa, preparando el espacio subantral para las fases reconstructivas del tratamiento implantológico.
Características principales:
- Inserto original Mectron para sistemas PIEZOSURGERY®.
- Especializado en la elevación profunda de la membrana sinusal.
- Completa el desprendimiento iniciado con el inserto SLE1.
- Indicado para procedimientos de elevación lateral del seno maxilar.
- Integrado en la gama Elevation de Mectron.
- Compatible con equipos PIEZOSURGERY® Mectron.
Ventajas del Inserto Piezosurgery SLE2:
- Permite completar la elevación profunda de la membrana de Schneider con elevada precisión.
- Favorece una separación uniforme en las regiones más alejadas de la ventana lateral.
- Prepara el espacio subantral para la colocación del biomaterial o del implante según el protocolo clínico.
- Complementa el trabajo realizado con el inserto SLE1 dentro de la secuencia quirúrgica.
- Contribuye a mantener un elevado control durante la fase final del sinus lift.
- Garantiza la calidad, precisión y compatibilidad de un inserto original Mectron.
El Inserto Piezosurgery SLE2 constituye una herramienta específica para implantólogos y cirujanos orales que realizan elevaciones laterales de seno y necesitan completar la movilización profunda de la membrana de Schneider antes de las fases reconstructivas del tratamiento implantológico mediante la tecnología PIEZOSURGERY® de Mectron.
- Promociones Producto MECTRON sin promoción
- Producto Insertos elevación de senos
- Superfamilia Instrumental clínica | Cirugía
- Grupo Logístico Sexto
forum Preguntas y respuestas
lock_outline Inicia sesión para poder hacer una pregunta sobre este producto.
Todavía no hay preguntas sobre este producto. ¡Sé el primero en preguntar!
Comentarios (1)
Su agradecimiento a la reseña no pudo ser enviado
Reportar comentario
Reporte enviado
Su reporte no pudo ser enviado