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Las resinas fotopolimerizables para bases de dentaduras fueron introducidas en el mercado en 1983. Para polimerizarlas se emplea una fuente de luz de longitud de onda entre 400-500 nm. Este sistema elimina la necesidad de usar mufla, encerado y tanques de hervido. Las resinas fotopolimerizables están formadas típicamente por una mezcla de monómero de dimetacrilato de uretano, partículas nanométricas de sílice y microesferas de PMMA. Se añaden pequeñas cantidades de iniciadores fotosensibles (canforoquinonas) y activadores (aminas) como fuentes de radicales libres. El material se suele suministrar pre-mezclado en forma de láminas flexibles las cuales están protegidas de la luz ambiente. No pueden ser curadas bajo presión en un molde y la superficie del material se recubre con un compuesto no reactivo (carboximetil celulosa) para evitar la polimerización por el oxígeno del aire.

Entre las ventajas de este tipo de resinas se encuentran su amplia versatilidad, un contenido en monómero residual mínimo, un tiempo de trabajo corto y propiedades físicas similares a las de las resinas acrílicas termopolimerizables. Entre sus desventajas están su elevada absorción de agua y la pobre adhesión a los dientes. Estos materiales son muy útiles cuando se producen bases de dentaduras huecas.